MOD法在双轴织构Ni_W合金基片上制备La_2Zr_2O_7缓冲层

论文发布时间：[2010-04-07] 范文大全编辑：Voive.net

所有作者：黄博郭培陶伯万

作者单位：电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室

论文摘要：MOD（金属有机化合物沉积）法是最具产业前景的第二代超导带材制备技术之一。La_２Zr_２O_７（LZO）缓冲层以其优良的化学稳定性和热稳定性，越来越受到人们的关注。本文采用MOD法在立方双轴织构的Ni-５at％W基底上制备了LZO薄膜，利用XRD和AFM对薄膜的取向和表面进行了研究。结果显示LZO薄膜具有很强的面内和面外取向，其中，LZO（２２２）面φ扫描的半高宽值（FWHM）为５。０°，（４００）面ω扫描的FWHM值约为５。７°，原子力显微镜测试结果表明薄膜表面连续致密平整，表面均方根粗糙度（Rrms）为１。５８nm。

关键词： La_2Zr_2O_7 缓冲层 MOD法双轴织构

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