退火气氛对脉冲激光沉积制备的Zn0.92Co0.08O薄膜铁磁性的影响

论文发布时间：[2010-03-18] 范文大全编辑：Voive.net

所有作者：何琼王浩汪汉斌王喜娜张军

作者单位：湖北大学物理学与电子技术学院

论文摘要：采用脉冲激光沉积方法在P型Si(１００)和石英玻璃衬底上用ZnCoO陶瓷靶材制备出了Zn０。９２Co０。０８O薄膜。采用场发射扫描电子显微镜、X射线衍射、X射线光电子能谱、紫外-可见透过光谱仪和振动样品磁强计对样品的表面形态、结构以及磁学性质进行了测试与分析。测试结果表明薄膜中掺杂的Co２+ 取代了ZnO晶格中Zn２+ 的位置。制备态的Zn０。９２Co０。０８O薄膜具有室温铁磁性并且其饱和磁化强度为６。３ emu/cm３。当将其在真空中进行退火，饱和磁化强度提高到７。０ emu/cm３。反之，若将其在氧气氛中进行退火，饱和磁化强度下降到４。２ emu/cm３。霍尔效应测量进一步表明氧空位浓度在调制稀磁半导体薄膜的铁磁性中起到重要的作用。

关键词：稀磁半导体氧化锌钴掺杂磁性能缺陷

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