所有作者：廖礼姝 郑谦 石冰 卢胜军 张睿 蒙田
作者单位：四川大学华西口腔医学院口腔疾病国家重点实验室；重庆医科大学附属儿童医院口腔科
论文摘要：目的：为在细胞水平研究地塞米松（Dex）致腭裂畸形的生物学机制，筛选出影响腭胚突间充质细胞生长的地塞米松最适浓度。方法：对腭胚突间充质（EPM）细胞进行原代培养，实验组细胞分别以１０-９mol/L、１０-８mol/L、１０-７mol/L 和１０-６ mol/L地塞米松加以干预，MTT 法检测各组细胞的增殖率，PI染色观测各组细胞的凋亡情况。结果：在１０％血清浓度条件下，随着Dex浓度的增加，细胞增值率降低。第３天达到了地塞米松药物作用的最高峰。Dex浓度为１×１０－６mol/l组与对照组相比，各时段的P值均小于０。０１。结论：地塞米松药物作用最显著，出现在加药后第３天，之后随着药物的代谢，作用减弱；浓度１×１０－６mol/l的地塞米松，既有一定程度的抑制EPM细胞生长的作用，又不会导致大量的细胞死亡。这个浓度可以作为在细胞水平研究地塞米松致畸的生物学机制的最适浓度。
关键词： 地塞米松 间充质细胞 腭裂
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