在熔融石英衬底上生长高质量的SrTiO3薄膜

论文发布时间：[2010-03-05] 范文大全编辑：Voive.net

所有作者：邢杰高兴宇姚坚毅

作者单位：中国地质大学（北京）材料科学与工程学院

论文摘要：利用磁控溅射技术在熔融石英衬底上生长了SrTiO３薄膜，然后对薄膜进行不同温度的后退火处理，利用X射线衍射和扫描电镜表征薄膜的微观结构。实验发现，未经退火处理的SrTiO３薄膜样品都是非晶态的，经过氧气氛退火处理后，薄膜开始结晶，晶化程度依赖于原位生长温度、退火温度和退火时间。研究结果表明，原位生长温度大于５５０ oC，后退火温度为７００ oC，退火时间不低于２个小时，可以保证在熔融石英衬底上获得一个完整、致密、结晶良好的SrTiO３薄膜。

关键词： SrTiO3 薄膜无定形结晶

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