所有作者:王燕军 黄其煜
作者单位:上海交通大学微电子学院;中芯国际集成电路制造有限公司
论文摘要:本文讲述了几种提高晶圆的高温氧化物层均匀性的方法。通过用49%高浓度的氢氟酸对晶舟清洗30分钟可以提高其均匀性从3。69%到2。24%,通过用在晶舟内表面上形成膜厚大于20000埃的高温氧化物层可以提高其均匀性从3。69%到2。28%。最终通过合并的最优化的方法可以提高高温氧化物层均匀性从3。69%到1。77%。进而提高了产品的质量和可靠性,获得巨大的经济效益。
关键词: 氧化层-氮化层-氧化层 高温氧化物 均匀性
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