奥氏体不锈钢活性屏低温离子渗碳工艺研究

论文发布时间：[2010-03-03] 范文大全编辑：Voive.net

所有作者：王建青王璐璐

作者单位：青岛科技大学机电工程学院等离子体表面技术研究所

论文摘要：利用活性屏离子热处理技术对奥氏体不锈钢进行低温离子渗碳(ASPC)处理，可以在不锈钢表面形成一层无碳化铬析出的碳的过饱和固溶体(Sc相)。处理后的奥氏体不锈钢可以在不降低耐蚀性能的基础上大幅度提高不锈钢表面的硬度，并解决了不锈钢直流离子渗碳温度均匀性差，工件存在边缘效应等问题，ASPC渗碳试样表面基本可以保持不锈钢原色。通过对活性屏上溅射下来的纳米活性粒子显微分析表明，这些粒子是Fe３C、Fe２C５中性粒子，在ASPC中起到渗碳载体的作用，所以ASPC渗碳的过程也应该是一个溅射—吸附—脱附的过程。

关键词：奥氏体不锈钢活性屏离子渗碳纳米粒子 Sc相

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