脉冲偏压磁过滤电弧离子镀TiN薄膜的组织结构及耐磨性

论文发布时间：[2010-03-01] 范文大全编辑：Voive.net

所有作者：李晓芳张岩田林海唐宾

作者单位：太原理工大学表面工程研究所

论文摘要：利用脉冲偏压磁过滤电弧离子镀在高速钢（M２）基底上制备了厚约２。５μm的TiN薄膜。用场发射扫描电镜（FESEM）观察薄膜表面和断面形貌，辉光放电光谱仪（GDOES）和X射线衍射仪（XRD）测试薄膜成分及相结构，划痕试验法分析膜基结合强度，显微硬度计和球盘摩擦磨损试验机对比考察TiN薄膜和M２高速钢基体的硬度和耐磨性。结果表明，TiN薄膜表面光滑致密，呈现致密柱状晶结构和明显的（１１１）择优取向，膜基结合强度大于６０N，薄膜硬度约为HK２６GPa。脉冲偏压磁过滤电弧离子镀制备的TiN薄膜表现出很好的减摩和耐磨性能。

关键词：电弧离子镀氮化钛（TiN）薄膜脉冲偏压磁过滤耐磨性

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