所有作者:潘杨 王倜 刘昌
作者单位:武汉大学物理科学与技术学院,声光材料教育部重点实验室
论文摘要:在氮化镓衬底上,利用InGaN缓冲层,使用射频分子束外延方法垂直生长了c轴取向的氮化铟纳米柱。纳米柱的密度可以通过铟氮比来调控。X射线衍射和电子显微镜研究了纳米柱的结构。并对生长机制进行了讨论
关键词: 氮化铟 铟镓氮缓冲层 分子束外延 纳米柱
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