所有作者：潘攀 李木军 周洪军 郑津津 刘韧 沈连婠
作者单位：中国科学技术大学 精密机械与精密仪器系
论文摘要：针对接近式紫外光刻图形转移中的曝光形状失真问题，采用波前分割的方法对掩模图形上的波前进行区域划分，并利用光场相干叠加相互抵消的性质，最终得到了掩模图形上对场点光场影响最大的波前区域，并得到了试验验证。应用模拟退火算法对掩模特征处进行局部优化，在保证优化效果的基础上，使优化过程大大简化。
关键词： 接近式光刻 波前分割 局部优化 模拟退火算法
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