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化学溶液沉积法制备Nd/Ni共掺钛酸铋薄膜及电学特性

论文发布时间：[2010-01-29]    范文大全    编辑：Voive.net

所有作者：刘为方 姜鹏 包定华

作者单位：中山大学理工学院

论文摘要：采用化学溶液沉积法在Pt/TiO２/SiO２/Si 衬底上制备了(Bi３。１５Nd０。８５)(NixTi１-x)３O１２ (BNNT)薄膜，研究了Ni掺杂量对薄膜结构和电性能的影响。Ni掺杂增加了介电常数，对于x=０。１０的Ni掺杂量，１kHz时的介电常数为２９７。同时，薄膜显示饱和的电滞回线。随Ni掺杂量增加，剩余极化强度和矫顽场强均减小。x=０。１０， ２Pr 和２Ec 分别为１７。７ μC/cm２和１７５ kV/cm。

关键词： Nd/Ni共掺钛酸铋 薄膜 铁电 介电

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