所有作者：高莉彬 李汝冠 蒋书文 李言荣
作者单位：电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室
论文摘要：铋基焦绿石薄膜具有介电可调性，并且介电常数适中、介电损耗低，是具有前景的微波可调介质薄膜材料。在器件微细加工过程中发现，铋基焦绿石薄膜的图形化非常困难。在采用HF水溶液湿法刻蚀的过程中会生成白色难溶沉淀物。为去除该白色沉淀物，本文对刻蚀液配方进行了研究。分析表明该白色沉淀物为三氟化铋（BiF３），本文采用HF、NH４F、 HNO３和去离子水配制的溶液，可使之生成可溶性的离子型络合物，从而去除刻蚀过程中生成的难溶沉淀物。
关键词： 铋基焦绿石薄膜 湿法刻蚀 图形化 微波可调介质薄膜材料
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