直流诱导的高功率脉冲非平衡磁控溅射

论文发布时间：[2010-01-08] 范文大全编辑：Voive.net

所有作者：牟宗信牟晓东贾莉董闯

作者单位：大连理工大学物理与光电工程学院

论文摘要：发表了直流诱导的高功率脉冲非平衡磁控溅射模式的现象和机制分析。常规圆形平面磁控靶与同轴线圈构成非平衡磁控溅射靶，同轴线圈电流改变系统的非平衡度；直流磁控溅射电源放电；圆形平面偏压电极研究基片上的离子通量。调整放电过程中的气压、功率和线圈电流等参数形成大幅度、低频的高功率脉冲放电，研究大幅度、低频的高功率脉冲放电特性与线圈电流、气压、功率等放电参数的联系。圆形平面偏压电极测量高功率脉冲放电的浮置电位和离子电流响应，分析了脉冲波形的特征和形成原因及影响因素。

关键词：放电磁控脉冲功率

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